ELLIP-SR-II
ELLIP-SR-Ⅱ 型产品是一款集光机电于一体高精度高稳定全自动椭圆偏振光谱仪。仪器主体采用高强度钢铝架构,底座采用立体式圆盘设计,使用高精度涡轮蜗杆承载系统加强入射角控制精度,提高仪器机械强度及稳定性,可通过电脑控制自动改变入射角同时与光谱测量相结合。
仪器状态调整、参数设置、数据采集一直到数据处理,均通过计算机自动完成,方便用户使用。可工作于从近红外至紫外的宽广光谱区,波长连续可调,入射角度从20度到90度内电脑控制自动连续可调。
主要适用于科研院所的信息光电子功能薄膜、体材料的光学性质和结构特性研究,可被研究材料种类包括:金属和合金、元素和化合物半导体、绝缘体、超导体、磁性和磁光材料、有机材料、太阳能薄膜、多层薄膜材料、液体材料等。在测量中,可按研究条件同时对入射角和波长进行自动精细扫描,从而增加研究的灵活性,便于用户获得更多的光谱信息进行数据分析,提高研究的质量和可靠性,并实现无接触无损伤测量。
该系列光谱仪的性能指标达均已达到国际同类技术的先进水平,产品畅销国内及出口海外市场。
主要特点
WINDOWS友好操作界面
电脑控制自动改变入射角,可提高入射角精度,无需手动改变。
实测光学常数种类:复折射率、复介电函数、吸收系数、反射率。
主要用途
1.各种功能材料的光学常数测量和光谱学特性分析;
2.测量薄膜材料的折射率和厚度; 测量对象包括:金属、半导体、超导体、绝缘体、非晶体、超晶格、磁性材料、光电材料、非线性材料;测量光学常数:复折射率的实虚部、复介电常数的实虚部、吸收系数a、反射率R。
主要技术参数
波长范围:250-830/1100/1700/2100nm
光源:超静氙灯
波长分辨率:1.0nm
入射角范围:20-90度(自动)
度盘刻度:每格1度
入射角控制精度:0.001°/脉冲
转角系统:涡轮蜗杆系统
光学常数精度 优于0.5%
样品台:? 80mm;二维俯仰调节:±4°;平移调节:13mm;
样品装载方式:自动吸附式
测量模式:反射式绝对光谱值自动测量
测量方式:自动完成AC信号测量,傅立叶变换
膜厚范围:透明薄膜:1-4000nm,纳米级为佳;吸收薄膜则与材料性质相关;
膜厚精度:±0.1nm(薄膜厚度在10-100nm时)
折射率范围:1.1-10
偏振器工作方式:自动旋转,无需读数
光学常数精度 优于0.5%
椭偏参数精度:D±0.02度;Y±0.01度
实测光学常数种类:复折射率( n, k );复介电函数(ε1,ε2);吸收系数α;反射率R;
电脑连接方式:PCI
*选配:独有微光斑技术